**纯水设备系统在半导体晶片制造过程中重起到至关重要的作用。在一个生产周期内,一个晶片与**纯水的接触**过35次,在任何一个环节发生供水中断或者水质不合格都会影响晶片的质量,甚至导致产品的报废。水处理之家网认为,稳定可靠的**纯水设备系统是**高品质半导体晶片可持续生产的关键。
工艺设计
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透机→中间水箱→中间水泵→EDI系统→微孔过滤器→用水点。
反渗透纯水设备产水量下降原因分析:
1、发生膜组件的压密;
2、膜组件数量的减少;
3、运转温度的下降;
4、在运转中反渗透设备压差上升;
5、金属氧化物和污浊物附着在膜面上;
6、低压力运转;
7、油分的混入;
8、在较高的回收率条件下运转。
反渗透纯水设备产水量下降解决方法:
1、当在高过基准压力的条件下运转就会发生膜组件的压密现象,需要时更换膜组件;
2、按照设计的膜组件数量正常运行;
3、按照设计温度达到标准25℃运行;
4、改进水处理设备的运行管理,改进进反渗透水质用对于膜组件进行清洗。
5、每天进行低压冲洗;
6、按照设计的基准压力标准调试运行;
7、注意油物质不可以进入给水更换膜组件;
8、在75﹪以上回收率条件下运转时,浓水的水量减少,膜组件内水的浓缩倍率就会上升,造成给水水质严重下降。由于这种给水的渗透压上升,导致透过水量的减少。严重的时候,将在膜面上析出盐垢。所以须按照设计回收率产水。
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